真空氛围炉在扩散炉口径变大以后，恒温区的横截面温度差卧式炉比立式大得多，真空箱式炉更能满足工艺请求；真空箱式炉为到达特殊工艺请求以至更低，使之满足薄膜工艺请求；真空箱式炉有利于满足自动化程度，完成自动装卸片。

　　真空氛围炉能在工艺过程中硅片在高温状态易变形，程度放置硅片变形小。真空氛围炉可通氛围抽真空，材质是石英管，配有石英管和真空密封法兰系统，能够在活动氛围和真空状态下快速加热和淬火样品。精细的控温仪升降温，控温精度。装置在可挪动支架上便当挪动。

　　真空氛围炉具有的炉膛构造设计，有多个独立可控的温区，能一次性完成产品排胶、烧结保温、可控降温的全过程。温控采用数显移相电压调理；传动系统无离合机构，采用控制步进电机，运转速度平稳无噪声，降落速度无级可调。炉膛保温资料采用节能型纤维，升﹑降温度快，炉温平均，烧结产品分歧性好。

【了解一下管式真空气氛炉的材质】

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